Fabrication of silver helix microstructures in a large area by a two-photon absorption DLW method

نویسندگان

چکیده

Abstract Large-area helix microstructures intended for metamaterials were fabricated using a negative photoresist, SU-8 two photon absorption direct laser writing (TPA-DLW). Two types of structures fabricated. One type is those with no neighboring distance. In this case, compact radius 2.5 and 1.0 ?m Another enough The shorter distance below 6.0 collapsed, whereas longer more than 6.5 ?m, free-standing could successfully be built. To stabilize the 1 radius, circular foundations 1.3 elevation angle 10, 12, or 14° built in advance. foundation useful to avoid collapsing microstructures. Due foundation, over 18,000 helical large area. coated silver an electroless plating method produce 3D metallic structures. Silver coating was measured EDX measurement. obtained have potential control handedness circularly polarized infrared beam.

برای دانلود باید عضویت طلایی داشته باشید

برای دانلود متن کامل این مقاله و بیش از 32 میلیون مقاله دیگر ابتدا ثبت نام کنید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

solution of security constrained unit commitment problem by a new multi-objective optimization method

چکیده-پخش بار بهینه به عنوان یکی از ابزار زیر بنایی برای تحلیل سیستم های قدرت پیچیده ،برای مدت طولانی مورد بررسی قرار گرفته است.پخش بار بهینه توابع هدف یک سیستم قدرت از جمله تابع هزینه سوخت ،آلودگی ،تلفات را بهینه می کند،و هم زمان قیود سیستم قدرت را نیز برآورده می کند.در کلی ترین حالتopf یک مساله بهینه سازی غیر خطی ،غیر محدب،مقیاس بزرگ،و ایستا می باشد که می تواند شامل متغیرهای کنترلی پیوسته و گ...

Large-format fabrication by two-photon polymerization in SU-8

Microporous structures are central to many fields of science and engineering, but many of these systems are complex with little or no symmetry and are difficult to fabricate. We applied two-photon polymerization (2PP) and femtosecond laser direct-writing techniques to fabricate broadarea large-format 3D microporous structures (450 μm × 450 μm × 40 μm) in the epoxy-based photoresist SU-8. The ap...

متن کامل

ذخیره در منابع من


  با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ژورنال

عنوان ژورنال: Scientific Reports

سال: 2021

ISSN: ['2045-2322']

DOI: https://doi.org/10.1038/s41598-021-95457-x